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平板膜MBR中自生二次膜的研究

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  • 更新日期：2013-03-23
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詳細(xì)介紹
研究了平板膜MBR中不同工況對自生二次膜的影響和自生二次膜對污染物的去除效果。結(jié)果表明，當(dāng)MLSS為11～15 g/L、DO為3 mg/L左右、SRT為60 d時，所生成二次膜的性狀最好，可以有效緩解膜污染；自生二次膜對細(xì)小顆粒和溶解性物質(zhì)有一定的截留作用，對COD的去除率可達(dá)到5.89％，但對TN的去除效果不明顯。
 
 
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