2021中國（深圳）國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會

時(shí)間：2021年8月23-25日     地點(diǎn)：深圳國際會展中心  （寶安）

█展會背景

微電子技術(shù)的發(fā)展一直是光刻設(shè)備和技術(shù)變革的動力，21世紀(jì)光刻技術(shù)將繼續(xù)居于諸多技術(shù)之首。光刻技術(shù)從誕生以來,在半導(dǎo)體加工制造行業(yè)中,作為圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)而廣為應(yīng)用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導(dǎo)體加工技術(shù)中最為關(guān)鍵的光刻技術(shù)和光刻工藝設(shè)備,必將發(fā)生顯著的變化。

隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高端芯片的集成度達(dá)到了數(shù)千乃至數(shù)億晶體管，推動芯片封裝技術(shù)向更高密度、更高性能發(fā)展，在傳統(tǒng)的接近/接觸式光刻機(jī)日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進(jìn)封裝工藝發(fā)展需求的情況下，先進(jìn)的大視場、大焦深、高精度投影光刻機(jī)逐步成為先進(jìn)封裝生產(chǎn)線的關(guān)鍵設(shè)備。由亨勱會展（上海）有限公司于眾多協(xié)會攜手在深圳會展中心舉辦“2021中國（深圳）國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展覽會暨發(fā)展論壇”，歡迎廣大相關(guān)單位參展、參觀！                                               

█日程安排：

報(bào)到布展：2021年8月21-22日   展出時(shí)間: 2021年8月23-25日

展出地點(diǎn)：深圳國際會展中心  （寶安）

█頂級盛會（大會設(shè)贊助、協(xié)辦單位，詳情請致電組委會）

品牌展示 高層論壇 行業(yè)用戶洽談會 外商采購會 新技術(shù)新產(chǎn)品發(fā)布會  

“搭建國際采購貿(mào)易平臺、促進(jìn)企業(yè)交流合作、提高參展效果”

                                                           ————將是我們的目標(biāo)！

◆規(guī)�？涨�——展出面積35,000平方米，國際標(biāo)準(zhǔn)展位共800個(gè)，超30000名專業(yè)觀眾

◆商機(jī)無限—采購商云集，光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)巨大商機(jī)全面彰顯，接觸分享全球光刻設(shè)備與掩膜技術(shù)行業(yè)市場潛力

◆技術(shù)薈萃—國內(nèi)外最新產(chǎn)品及成果薈萃，展會-論壇-經(jīng)貿(mào)合作，是企業(yè)宣傳及市場開拓的高效平臺

◆項(xiàng)目匯聚—每年一度的行業(yè)例會，貿(mào)易對口洽談，國際貿(mào)易公司定點(diǎn)采購，是會展招商的重要平臺

█展品范圍：

◆曝光光源、光學(xué)系統(tǒng)、電系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等；

◆光刻機(jī)、光刻技術(shù)、步進(jìn)投影光刻機(jī)、掃描投影光刻機(jī)、納米光刻技術(shù)、無掩模光刻技術(shù)、沉浸式光刻技術(shù)、準(zhǔn)分子激光光刻技術(shù)、極紫外光刻機(jī)、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術(shù)、微光刻技術(shù)、電子束曝光機(jī)、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機(jī)、光刻機(jī)零部件、光刻前處理材料、曝光系統(tǒng)、光刻-掩模無機(jī)芯片與加工系統(tǒng)、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設(shè)備等；

◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設(shè)備、光掩模測試等； 

█觀眾范圍：

◆展會將邀請全國、省、市、各相關(guān)科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導(dǎo)體、微/納電機(jī)系統(tǒng)、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業(yè)、大學(xué)、研究所、咨詢機(jī)構(gòu)和公共機(jī)構(gòu)的專家代表等人員到會參觀、洽談。

◆預(yù)計(jì)展覽會將吸引來自中國、日本、歐洲、北美、韓國、臺灣等國家和地區(qū)的決策者和專業(yè)人士。來自各國的參展商可以在展會中面對面會見極具潛力的應(yīng)用客戶群和合作伙伴。參展商通過光刻設(shè)備與光掩膜技術(shù)展會，進(jìn)一步發(fā)展中國和亞洲地區(qū)市場。

█參展細(xì)則  標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用：（注：雙面開口加10%開口費(fèi)）

展位規(guī)格 國內(nèi)企業(yè) 合資企業(yè) 外資企業(yè)

標(biāo)準(zhǔn)展位(3m*3m)9㎡ RMB 15000/9㎡展期 RMB 17000/9㎡展期 USD 3000/9㎡展期

光地（36 ㎡） RMB 1600/ ㎡展期 RMB 1800/ ㎡展期 USD 300/ ㎡展期

◆標(biāo)準(zhǔn)展位費(fèi)用：包括展出場地、2.5m高壁板、楣牌制作、9平方米地毯、洽談桌一張、椅子二把、10A/220V 單相插座一個(gè)，射燈二支。 

◆空場地不帶任何展架及設(shè)施，參展商自行安排特殊裝修工作或委托組織單位推薦的搭建公司。

◆廣告刊例 

注：會刊規(guī)格（135mm * 210mm)、進(jìn)口銅版紙、版面內(nèi)容由展商自行設(shè)計(jì)。

封面 封二 封三 封底 扉頁 彩色整版 黑白整版 文字簡介

25000元 18000元 12000元 18000元 12000元 6000元 4000元   2000元

◆新技術(shù)發(fā)布會、新產(chǎn)品推廣會，專題研討會

主辦單位計(jì)劃在展覽期間開展一系列新產(chǎn)品新技術(shù)發(fā)布會、新產(chǎn)品推廣會、產(chǎn)品專題研討會，參展商可以獲得研討會優(yōu)先贊助權(quán)，有關(guān)公司可以自主確定報(bào)告內(nèi)容，負(fù)責(zé)提供相關(guān)文件，每家贊助公司可以自定邀請觀眾數(shù)量。

★每場收費(fèi)20,000元RMB，時(shí)間為45分鐘（含場地各類配套設(shè)施、宣傳費(fèi)用等）

█參展事項(xiàng)

1、參展單位詳細(xì)填寫好《參展合同表》并加蓋公章，郵寄或傳真至組委會；

2、組委會收到確認(rèn)申請表，參展商于3個(gè)工作日內(nèi)將參展費(fèi)用50%或全款匯入組委會帳戶，并將匯款憑證傳真至組委會以便查對，否則不予保留預(yù)訂展位。

3、展位安排以“先報(bào)名、先交款、先安排”為原則，組委會有權(quán)對少量展位予以調(diào)整；

4、展品運(yùn)輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前一個(gè)月組委會另行發(fā)送《參展商手冊》。

                                                                                  

2021中國（深圳）國際光刻設(shè)備與光掩膜應(yīng)用技術(shù)展組委會 

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